蓝宝石衬底前沿信息_蓝宝石衬底生产车间(2024年11月实时热点)
华灿光电收盘上涨0.83%,最新市净率1.38
2024-2030年中国蓝宝石衬底材料行业竞争策略及投资商机分析报告
二重对称蓝宝石上生长的矩形MoS2 2020年,徐华团队在二重对称的a面蓝宝石衬底上,成功生长了高度取向的矩形MoS2晶粒。这一成果发表在《Small》上,文章DOI号为10.1002/smll.202000596。 摘要: 大多数CVD生长的TMD材料由随机取向的晶粒组成,含有许多扭曲的晶界(GBs),这严重影响了它们的电学和光电性能。本文报道了在二重对称a面蓝宝石衬底上生长的高度取向MoS2晶粒的外延生长。得到的MoS2晶粒呈矩形,沿a平面蓝宝石的[1-100]晶体学方向取向排列。研究发现,生长温度对其取向排列和形态演化起着关键作用,高温有利于MoS2种子向有利的取向构型旋转。此外,排列良好的MoS2晶粒的光致发光猝灭表明,MoS2与衬底之间存在强烈的相互作用,导致MoS2的各向异性生长,从而形成矩形晶粒。此外,排列良好的二硫化钼颗粒拼接在一起,没有形成GB,因此对其电输运性质的影响可以忽略不计。本工作的进展将促进大面积TMD单晶薄膜的可控合成和高性能电子器件的可扩展制造。 内容: 取向MoS2的PL强度比不取向的要弱很多,拉曼峰也会红移,作者认为源于衬底给予MoS2更强的应力。 小角度的晶界对器件性能几乎没有影响。 矩形的MoS2畴区比三角形畴区薄0.02 nm,作者认为矩形的MoS2畴区与衬底相互作用更强。 通过延长生长时间,矩形MoS2畴区可以生长为百微米的纳米带。 衬底的应力作用可以通过转移消除。 大角拼接MoS2晶粒的GB区比小角拼接的GB区具有相对更高的化学反应活性,因此可以利用这一特征通过氧化处理来判断GB的稳定性和取向角。 作者提出了三种可能的取向生长机制:(1)气流诱导取向,但作者做了反向气流的对比实验,无相关性;(2)原子台阶诱导取向,但作者观察了台阶方向和MoS2取向,无相关性;(3)各向异性的MoS2-衬底相互作用,DFT计算选取的模型是矩形MoS2团簇,0度占优。 本文单晶生长的本质就是二重对称的衬底导致的各向异性生长。 结论: 二硫化钼畴区的取向和形貌演化对生长温度有很大的依赖性,较高的生长温度能让晶粒向有利的方向旋转。矩形MoS2是由衬底介导的各向异性生长引起的。这项工作提出了未来发展适当的设计衬底的可能,这些衬底可以介导大面积2D TMD单晶膜或1D纳米带的可控合成。
LED衬底材料大比拼:谁更适合你的应用? 在LED的世界里,衬底材料的选择至关重要,它不仅影响着LED的性能,还关系到生产成本和商业化的可行性。让我们一起来探索几种常见的LED衬底材料吧! 碳化硅(SiC) 碳化硅是一种IV-IV族二元化合物,是元素周期表中IV族元素中唯一的稳定固态化合物,具有卓越的热学、力学、化学和电学性质。它不仅是制作高温、高频、大功率电子器件的理想材料,也是基于GaN的蓝色发光二极管的优选衬底。 SiC的带宽隙使其制成的功率器件能够承受更高的电压和电流,耗尽层更薄,从而工作速度更快,器件体积更小,重量更轻。此外,碳化硅的导热性能(导热系数为490W/(mⷋ))是蓝宝石衬底的10倍以上,这使得它成为一种非常高效的散热材料。 然而,碳化硅的制造成本相对较高,这限制了其商业化应用。此外,SiC衬底吸收380纳米以下的紫外光,因此不适合用于研发380纳米以下的紫外LED。 氮化镓(GaN) 氮化镓(GaN)是另一种重要的LED衬底材料。用于GaN生长的最理想衬底是GaN单晶材料,这可以大大提高外延膜的晶体质量,降低位错密度,从而提高器件的工作寿命和发光效率。 尽管制备GaN体单晶非常困难,但它在LED领域的应用前景依然广阔。 氧化锌(ZnO)𑊦𐧥锌(ZnO)因其与GaN的相似性而成为GaN外延的候选衬底。两者晶体结构相同,晶格识别度非常小,禁带宽度接近,这使得ZnO在外延生长过程中表现出色。 然而,ZnO作为GaN外延衬底的致命弱点是在GaN外延生长的温度和气氛中易分解和腐蚀。目前,ZnO半导体材料尚不能用来制造光电子器件或高温电子器件,主要是因为材料质量达不到器件水平,且P型掺杂问题尚未解决。适合ZnO基半导体材料生长的设备也尚未研制成功。 总的来说,每种LED衬底材料都有其独特的优势和局限性。选择适合你应用的衬底材料需要权衡其性能、成本以及对特定波长LED的适用性。
$*ST花王 sh603007$不知道为啥,突然有人开始质疑草案了,确实草案有些内容没写清楚,但是这不是个案,很多公司都不写清楚,包括当时的实达,也是被问询才回复的。不过花王的好处是,写或者不写,都可以推测出来是半导体,就是不好判断具体什么业务!如果是蓝宝石衬底,现在这个价格也不算高!如果是第三代碳化硅,现在是明显低估状态,如果是ME⭍s,就是严重低估! 面纱这几天就要揭开了,从公开信息看,碳化硅,ME⭍S的可能都很大。 更有些人胡扯,退市,花王没有退市风险,25年没有,由于重整正式受理26年也没有,至于27年有没有,要看具体,公开看大概率没有。 不看好走就可,胡说八道没意思。 其实现在的风险根本不是花王,花王根本没系统性风险。这个吧里的朋友,我友情提示一句,现在还没被受理的,都要注意注意了,如果本月底还没被裁定重整受理的带星的票,不敢说百分百退,但是大概率退!去看看基本面,这个阶段不要赌博!
蓝宝石衬底抛光液(2) 本品蓝宝石衬底抛光液,对于蓝宝石衬底材料表面的高精密加工起到很大的作用,且在抛光过程低粗糙、高速率、不污染环境,下面专家来科普本品抛光液的专业配方知识。 1.png 制备方法 对乙二醇有机溶剂边搅拌边加入金刚石多晶体。并进行充分据匀。 原料配伍 本品各组分质量份配比范围为;乙二醇160~190、多晶微粉1~3。 所述多晶微粉为金刚石多晶体,粒径为3~9um,本工艺所说的抛光是减薄之后的抛光,抛光的作用如下,①去除粗磨之后的划痕,减少晶圆的内应力,使得裂片时不会造成乱裂,提高合格率;②将晶圆背面抛光也是激光划片和裂片工艺的必要条件,因为背面抛成镜面之后,划片机才可以用CCD进行对点,完成划片工作。使用本品的抛光液对蓝宝石衬底继续进行加工,首先是粗抛,在温度为20℃士2℃的条件下,利用粗抛机和抛光液对蓝宝石衬底进行抛光,使其粗糙度达到0.1左右,厚度的均匀性在1.0pm以内:接着,进行精抛,温度为20℃Ⱳ℃的条件下,利用精抛机和纳米抛光液对蓝宝石村底进行抛光,使蓝宝石村底的表面粗糙度达到20nm以下、镜面效果、无应力。 产品应用 本品主要应用于蓝宝石村底抛光。 产品特性 在相应的抛光工艺条件下进行抛光,可实现蓝宝石衬底材 料表面的高精密加工,并能满足工业上对蓝宝石衬底片CMP精密加工的要求。本品具有成本低、低粗糙、高速率、不污染环境及腐蚀设备的优点。 本文转载自《抛光剂——配方与生产》编著 李东光
蓝宝石衬底加工全攻略 蓝宝石,纯净的三氧化二铝(Al2O3),不仅热导性、电气绝缘性、透光性一流,还超级耐高温、高强度、高硬度!ꥮ是红外、导弹、卫星等高科技领域的窗口材料,也是LED产业的关键衬底。 쨓宝石衬底的加工,可是个技术活!从长晶到切片,每一步都不能马虎。长晶炉里,高品质的单晶蓝宝石晶体慢慢生长;掏棒机台上,确保晶体位置正确,便于下一步加工。 ️滚磨、品检、定向、切片...每一步都精益求精。研磨后,晶片更平整;倒角处理,让边缘更圆润;抛光后,晶片表面光滑如镜;最后清洗干净,就可以进行品检啦! 加工好的蓝宝石衬底,不仅质量上乘,还广泛应用于各个领域。快来了解这神奇的加工工艺吧!
路维光电拟募资7.4亿发行可转债获上交所受理 10月21日,路维光电发布公告宣布,上交所依据相关规定对公司报送的科创板上市公司发行证券的募集说明书及相关申请文件进行了核对,认为该项申请文件齐备,符合法定形式,决定予以受理并依法进行审核。 公告显示,路维光电计划向不特定对象发行可转换公司债券,募集资金总额不超过7.4亿元。此次发行的可转债主要用于半导体及高精度平板显示掩膜版扩产项目、收购成都路维少数股东股权项目以及补充流动资金和偿还银行借款。 公司募集资金投资项目“半导体及高精度平板显示掩膜版扩产项目”达产后,将新增半导体掩膜版、G8.6及以下LCD平板显示掩膜版和AMOLED/LTPS平板显示掩膜版产能,以应对下游平板显示G8.6及以下LCD、AMOLED以及130nm制程节点以上半导体产品产能扩张和对掩膜版需求扩大的发展趋势。 据悉,路维光电主要产品为掩膜版,掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版,是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。 在平板显示掩膜版,路维光电已实现了G2.5-G11全世代覆盖,产品广泛应用于 TFTLCD、AMOLED、Mini/Micro LED等显示领域,可配套平板显示厂商各世代产线;180nm及以上制程节点半导体掩膜版广泛服务于先进半导体芯片封装、半导体器件、先进指纹模组封装、高精度蓝宝石衬底(PSS)等产品应用。 目前,路维光电在LTPO(低温多晶硅氧化物)、Mini LED、Micro LED、硅基OLED等新型显示技术领域取得突破,各类产品均已实现量产。 在半导体掩膜版领域,路维光电实现了180nm及以上制程节点半导体掩膜版量产,并储备了150nm制程节点及以下成熟制程半导体掩膜版制造关键核心技术,研发中心将130nm至28nm制程节点的半导体掩膜版及相移掩膜版的生产制造技术作为重点研发方向。 业绩方面,从2021年到2023年,公司营收逐年增长,分别为4.94亿元、6.40亿元和6.72亿元,年增长率分别为22.88%、29.66%和5.06%。同期净利润也持续上升,分别为5230.64万元、1.20亿元和1.49亿元,年增长率为61.14%、129.00%和24.23%。 2024年上半年,公司营收达到3.96亿元,同比增长28.49%;净利润为8242.30万元,同比增长16.69%。(LEDinside Mia整理)
金刚石晶体类型及其应用详解 金刚石是一种广为人知的超硬材料,人造金刚石晶体有多种类型。本文将详细介绍金刚石晶体的不同类型及其应用。 金刚石单晶 金刚石单晶是由具有饱和性和方向性的共价键结合而成的晶体,是金刚石晶体中最常见的类型。其结晶体内部的微粒在三维空间内呈有规律地、同期性地排列,具有缺陷少、无晶界制约的特点。因此,单晶金刚石在导热性、硬度、透光性以及电性能上有突出的优势。 金刚石多晶 劥䚦𖩇刚石的结构由众多细小的纳米级小颗粒通过不饱和键结合而成,与天然的黑金刚石(以黑色或暗灰色为主色的天然多晶金刚石)极为相似。与单晶金刚石相比,多晶金刚石的晶粒呈无序排列,韧性好,具有更大的表面积,在承受更高的压力时不会出现大面积破碎。 金刚石类多晶 由于多晶金刚石有很大的市场需求,类多晶金刚石产品应运而生。类多晶金刚石使用单晶金刚石做原材料,经过表面刻蚀处理形成蜂窝孔洞结构,以达到类似多晶金刚石的磨抛效果,因此称为“类多晶”金刚石。类多晶金刚石微粉是介于单晶金刚石和多晶金刚石之间的新型磨料,具有硬度适中、把持力强、自锐性强、磨削效率高、可显著降低工件表面的粗糙度等特点。它广泛应用于碳化硅、蓝宝石衬底晶片、光学镜片、陶瓷和合金等领域的精密研磨、抛光。 金刚石聚晶 犤 金刚石聚晶是一种将金刚石与结合剂在高温、高压条件下烧结而成的金刚石聚合物,具有极高的耐热性和很高的热稳定性。它广泛应用于制造石油、地质钻头、钻石加工和机械加工工具等。聚晶金刚石既是工程材料,又是新型的功能性材料;既是高新技术产品,又是高效益的产品。随着现代工业和科学技术的发展,聚晶金刚石以其优良的力、热、化学、声、光、电等性能,在现代工业、国防和高新技术等领域中得到日益广泛的应用。 生产方法与微观结构 슧产方法: 单晶金刚石:通过石墨和触媒经六面顶压机合成。 多晶金刚石:通过爆炸法合成。 聚晶金刚石:将单晶金刚石与结合剂在高温高压下烧结而成。 微观结构: 单晶金刚石:按照某个晶面规律的外延生长。 多晶金刚石:混合生长。 通过以上对比,可以看出不同类型的金刚石晶体在生产方法、微观结构和应用上有显著差异。了解这些差异有助于更好地选择适合特定应用的金刚石晶体类型。
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