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磷烷最新娱乐体验_磷烷是什么气体(2024年11月深度解析)

内容来源：中小站长动力网所属栏目：话题更新日期：2024-11-27

磷烷（PH3）：剧毒。主要用于硅烷外延的掺杂剂，磷扩散的杂质源。砷烷（AsH3）：剧毒。主要用于外延和离子注入工艺中的n型掺杂剂。氢化锑（SbH3）：剧毒。用作制造n型硅半导体时的气相掺杂剂。五氟化磷（PF5）：在潮湿的空气中产生有毒的氟化氢烟雾。用作气态磷离子注入源。六氟乙烷（C2H6）：在等离子工艺中作为二氧化硅和磷硅玻璃的干蚀气体。三氟化硼（BF3）：有毒，极强刺激性。主要用作P型掺杂剂、离子注入源和等离子刻蚀气体。三氟化氮（NF3）：毒性较强。主要用于化学气相淀积（CVD）装置的清洗。三氟化磷（PF3）：毒性极强。作为气态磷离子注入源。四氟化碳（CF4）：作为等离子蚀刻工艺中常用的工作气体，是二氧化硅、氮化硅的等离子蚀刻剂。

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