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溅射靶材最新视觉报道_溅射靶材四大金刚(2024年11月全程跟踪)

内容来源：中小站长动力网所属栏目：热点更新日期：2024-11-28

溅射靶材

国内两家做半导体溅射靶材的，一个有研新材，一个江丰电子，江丰电子是龙头，质地比有研新材好。我预期江丰电子还会异动，可关注

《高纯溅射靶材国产替代加速！半导体关键材料，龙头厂商梳理》播放量：553 作者：乐晴智库网页链接

【从小器件到大市场——IC China 2024侧记】从溅射靶材到设备零部件，从IC测试分选机到封装设备，从小小的元器件到广阔的应用市场……在第二十一届中国国际半导体博览会（IC China 2024）的展览现场，观众可通过一日游历芯片一生的足迹。相较往年，今年的IC China更像是中国半导体行业交出的一份年度“成绩单”：材料、设备、封装，各项环节的参与更加深入，成果有目共睹。网页链接

𐟎Ž⧴⩝𖦝的奥秘：从基础到应用 𐟔 靶材，也被称为溅射靶材，是溅射镀膜过程中被溅射的物质。溅射是一种材料沉积方法，通过加速带电粒子（离子）撞击靶材表面，将靶材表面的原子或分子“剥离”出来，然后将其沉积到衬底表面，形成薄膜。靶材的选择和质量对薄膜的性能有着至关重要的影响。 𐟔젩𖦝的制备方法多种多样，包括熔炼和铸造、粉末冶金、化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、电化学沉积以及粉末冶金-热压等。这些方法的选择取决于靶材的材质、组分以及所需的性能。 𐟌 靶材在许多工业中得到了广泛的应用，特别是在半导体集成电路、记录介质以及工件表面涂层等领域。随着电子工业和信息技术的发展，靶材在电子、信息、航空航天等领域的应用也在不断增加。

$光智科技 sz300489$：拟购买PVD溅射靶材公司先导电科100%股份，今天继续20%涨停一字32.81元。

靶材结瘤问题的产生原因及改善措施「中诺新材」「溅射靶材」「靶材结瘤」靶材结瘤是靶材表面持续受到Ar+轰击以及被溅射原子再沉积的多重作用而发生复杂的物理化学变化,靶材结瘤毒化后，靶材的溅射速率降低，打弧频率增加，膜层均一性变差,此时就必须停机清理靶材表面或更换靶材，这将严重降低沉积膜层的质量和生产效率。靶材结瘤的原因： 1.长时间的溅射过程会使靶材表面局部过热。当靶材的某些区域温度过高时，就容易引发材料的聚集和结晶，从而逐渐形成结瘤。 2.杂质的存在也是一个重要因素。如果溅射环境中存在杂质颗粒，它们可能会附着在靶材表面，随着时间的推移，这些杂质不断积累，最终形成结瘤。 3.不合理的工艺参数设置。例如，过高的溅射功率、不恰当的气体压力等都可能使靶材表面的能量分布不均匀，增加结瘤的风险。靶材结瘤的危害：一方面它会严重影响镀膜的均匀性。结瘤区域的溅射速率与其他区域不同，导致薄膜厚度不均匀，从而影响产品的性能和外观。另一方面，结瘤可能会在溅射过程中脱落，成为颗粒污染，降低薄膜的质量。而且，结瘤还会缩短靶材的使用寿命，增加生产成本。靶材结瘤的改善措施：定期对靶材进行清理和维护是非常必要的。可以使用适当的工具和方法，将靶材表面的结瘤去除，恢复靶材的平整表面。采用旋转靶等技术可以使靶材表面受热均匀，减少局部过热的情况，从而降低结瘤的发生概率。优化工艺参数也是关键。合理调整溅射功率、气体压力等参数，使溅射过程更加稳定，减少能量分布不均匀的情况。加强对溅射环境的清洁度控制，防止杂质进入系统，也能有效减少结瘤的形成。

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